光罩清洗的流程以及优化
材料制成的盘刷，在毛刷回转速时，毛刷外周的接触面积较大，可以有效提高清洗效果。在清洗光罩时，可以通过设定毛刷的转速以及毛刷的压入量来改善清洗效果。
3.2 超声波清洗（MS清洗）
正常清洗时，毛刷配合药液清洗之后会使用超声波和纯水共同清洗来去除微细颗粒。超声波Shower通过设定输出功率来变更清洗能力。在MS清洗模块固定不动的情况下，有效的清洗面积比较小，但通过MASK Stage的自旋转，以及MS清洗模块的来回移动可以将光罩的整面都覆盖。
3.3 氮气（N2）干燥
在光罩清洗结束之后，MASK Stage会慢慢加速旋转，当达到一定速度时会保持一个恒定的转速，同时，氮气干燥管会慢慢移动到光罩中心位置正上方，与光罩下方的氮气气管同时向光罩吹气，通过离心力的作用，将光罩表面的液体吹出表面以达到干燥效果。
4 MASK清洗的流程优化
在初次清洗光罩建立清洗工艺的时候，清洗光罩顺序的选择：先清洗光罩的反面再清洗光罩的正面，清洗完毕后进行检查确认；但在实际生产过程中发现这样的清洗步骤会多一次光罩翻转，而光罩翻转是不必要的时间，所以清洗光罩时将清洗光罩的顺序变更为先清洗光罩的正面再清洗光罩的反面，可以节约一次翻转光罩的时间。
正常清洗时，还可以通过提高毛刷的转速和毛刷的压入量、MASK Stage的转速来达到提高清洗效果的目的。光罩污染主要是针对与生产基板接近的膜面（光罩的反面），所以，在清洗光罩时使用的清洗工艺可以大大减少对于光罩正面的清洗时间而稍微增加光罩（光罩的反面）膜面的清洗时间。
5 结语
当然，采用接近式曝光机，产生MASK共通的几率要远远大于扫描式曝光机，而曝光机整体的洁净度更是可以影响清洗光罩的频度，所以液晶生产中清洗光罩的时间，不仅仅要对清洗的工艺进行优化，也要对洁净室的环境进行定期检测，以保证洁净度可以达到相应的要求。
参考文献
[1]翁寿松.下一代光刻技术的设备[J].电子工业专用设备，2004，33（10）：35-38.
[2]吳洋洋，倪俊芳.玻璃微流路芯片加工工艺研究[J].苏州大学学报：工科版，2009，29（1）：45-48.